氧電漿機：高效活化改質，半導體與材料處理首選

氧電漿機是一種利用氧氣產生高能離子與自由基來清潔、改質或殺菌材料表面的設備，廣泛用於實驗室、半導體製程及工業表面處理等領域。

工作原理

氧電漿機透過建立等離子體（Plasma），將氧氣電離為原子氧、臭氧、電子及中性活化粒子，這些高能粒子可以與材料表面發生反應。氧電漿機是一種高效、環保、精準的表面處理工具，其用途涵蓋學術研究、製程技術及工業應用。選擇時需考慮樣品尺寸、功率需求、氣體種別及操作環境，以符合特定應用需求

典型作用包括：

• 表面清潔：活性氧分解表面有機污染物或油脂，生成水和二氧化碳，達到高效、無化學殘留的清潔效果

• 表面活化/改質：透過自由基或電子轟擊，使材料表面生成新的官能基或薄膜，提高潤濕性、黏著性及材料互相黏合效果

• 表面蝕刻與圖案化：使表面特定區域去除材料層，用於微加工或半導體製程

• 殺菌：低溫電漿可以破壞微生物細胞膜與DNA，適用醫療器械消毒

白色電漿氣體為”O2氧”

紫色氣體為”Argon氬”